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AEH系列單片濕法刻蝕設(shè)備PX 2402
SPTS深硅刻蝕設(shè)備/刻蝕機PX 4020
美國 MONODE M-450E半自動電化學蝕刻機PX 3163
濕法刻蝕顯影機-勻膠機PX 2674
SWC-5000全自動兆聲晶圓清洗機PX 2849
CESx124UltraT進口濕法刻蝕和剝離系統(tǒng)PX 3469
濕電子化學品用PFA瓶耐腐蝕透明pfa取樣瓶PX 4355
572半導(dǎo)體濕法工藝專用鑷子PX 3632
PSE V300深硅刻蝕機PX 2150
ICP-RIE SI 500德國SENTECH等離子刻蝕機PX 5613
Fusions CO2 激光熔融系統(tǒng)PX 2404
濕法腐蝕清洗系統(tǒng)PX 3332
EDC-650-23濕法刻蝕機EDC-650-8/EDC-650-15/EDC-650-XPX 2370
美國Laurell濕法刻蝕顯影機 EDC-650Mz-8NPPPX 4020
SWC-4000兆聲晶圓(掩模版)清洗機PX 2849
單片濕法刻蝕機 若名芯PX 0
半導(dǎo)體腐蝕清洗機 芯矽科技PX 0
全自動硅片刻蝕機 芯矽科技PX 0
硅片濕法刻蝕設(shè)備 芯矽科技PX 0
濕法刻蝕清洗設(shè)備 芯矽科技PX 0
硅片腐蝕清洗設(shè)備 芯矽科技PX 0
WS-1000MLaurell-WS半導(dǎo)體濕法刻蝕系列PX 3469
WS-1000Laurell 濕法刻蝕設(shè)備PX 3469
EDC-650Hz-23NPPBLaurell-EDC勻膠顯影機PX 3469
EDC-650Hz-8NPPBLaurell勻膠顯影機EDCPX 3469
2英寸陶瓷片用四氟花籃耐腐蝕聚四氟清洗架PX 4355
HSE系列深硅刻蝕機PX 2150
customized硅片腐蝕清洗機PX 2150
PlasmaPro 800 RIE反應(yīng)性離子刻蝕系統(tǒng)RIEPX 2150
PlasmaPro 80 RIE反應(yīng)性離子刻蝕系統(tǒng)RIEPX 2150
RIE-1C緊湊型刻蝕設(shè)備PX 2150
RIE-400iPB深硅刻蝕設(shè)備PX 2150
RIE-800iPB電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備PX 2150
RIE-800BCT深硅刻蝕設(shè)備PX 2150
RIE-802BCT深硅刻蝕設(shè)備PX 2150
ELEDE® 380系列芯片刻蝕機PX 2150
GDE C200系列高密度 刻蝕機PX 2150
NMC 508系列ICP 刻蝕機PX 2150
NMC 612G12英寸金屬刻蝕機PX 2150
NMC 508系列CCP介質(zhì)刻蝕機PX 2150
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
AEH系列單片濕法刻蝕設(shè)備
深硅刻蝕設(shè)備/刻蝕機
美國 MONODE M-450E半自動電化學蝕刻機
半導(dǎo)體濕法工藝專用鑷子
半導(dǎo)體濕法工藝真空吸頭
半導(dǎo)體濕法腐蝕專用鑷
Fusions CO2 激光熔融系統(tǒng)
Excite Pharos 飛秒激光剝蝕系統(tǒng)
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學儀器有限公司
廣播電視節(jié)目經(jīng)營許可證
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