光刻工藝設(shè)備 參考價：面議
光刻工藝設(shè)備產(chǎn)品概述：應(yīng)用于3D封裝、LED、微機電系統(tǒng)、化合物半導體、功率器件等領(lǐng)域主要配置：自動對準、自動曝光、LED光源、機器視覺對準系統(tǒng)、高精度硅片承載...
全自動去膠機 參考價：面議
全自動去膠機產(chǎn)品介紹：1設(shè)備名稱：全自動干法去膠機2設(shè)備型號：CGST31003設(shè)備原理：ICP4晶圓尺寸Wafer size: 8 inch（4或6 inch...
旋涂儀 參考價：面議
旋涂儀應(yīng)用：在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時間有關(guān)。應(yīng)...
自動滴膠勻膠機 參考價：面議
自動滴膠勻膠機，MSC-200T-D桌上型半自動旋轉(zhuǎn)涂布機用于對均勻性和一致性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液自動涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰...
勻膠機 參考價：面議
勻膠機設(shè)備簡介：桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機，用于對均勻性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液手動涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰等基片上形成薄膜，主要應(yīng)用于12...
桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機 參考價：面議
桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機將溶液涂覆在硅片、FTO、ITO、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，主要應(yīng)用于鈣鈦礦電池和光刻膠涂敷成膜等領(lǐng)域。主要應(yīng)用于4、6寸樣品。該款可為客戶提...
烤膠機 參考價：面議
烤膠機產(chǎn)品特點：熱均勻性：采用單片機和集成電路板設(shè)計， 同時采用密集加熱 管澆灌一體成型，均勻性更高。體積：外觀小巧精致，以及超大按鍵更適宜手套箱內(nèi)操作使用耐腐...
全柜式涂膠顯影機 參考價：面議
全柜式涂膠顯影機該設(shè)備用于 8 寸晶圓的涂膠、顯影、烘烤工藝；設(shè)備包括主要的工藝模塊：涂膠模塊 COT,顯影模塊 DEV、熱 盤 HP 等（各腔體間有擋板隔開）...
針筒式旋轉(zhuǎn)涂布機 參考價：面議
針筒式旋轉(zhuǎn)涂布機MSC-200T-D桌上型半自動旋轉(zhuǎn)涂布機用于對均勻性和一致性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液自動涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰...
桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機 參考價：面議
設(shè)備簡介：桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機，用于對均勻性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液手動涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰等基片上形成薄膜，主要應(yīng)用于12寸以內(nèi)...
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